Мете за прскање титанијума високе чистоће

Титанијумске мете за прскање високе чистоћесу извори распршивања који формирају различите функционалне танке филмове на супстратима магнетронским распршивањем, вишелучним јонским слојем или другим типовима система превлаке под одговарајућим процесним условима. Једноставно речено, циљни материјал је циљни материјал бомбардован наелектрисаним честицама велике брзине.

Користи се у ласерском оружју високе енергије. Када ласери различите густине снаге, различитих излазних таласних облика и различитих таласних дужина ступају у интеракцију са различитим циљевима, они ће произвести различита убиства и оштећења. ефекат. На пример: премаз за распршивање магнетрона за испаравање је премаз за грејање, алуминијумски филм и тако даље. Заменом различитих циљних материјала (као што су алуминијум, бакар, нерђајући челик, титанијум, никл мете, итд.), могу се добити различити системи филмова (као што су супертврди, отпорни на хабање, филмови од легура против корозије, итд.).

Параметерс

Карактеристике

1. Мала тежина

2. Висока специфична снага

3. Отпорност на корозију

4. Отпорност на високе и ниске температуре

Апликације

★Бродоградња ★Електролитичка обрада ★Ваздухопловство ★Хемијска индустрија ★Медицинска опрема

Детаљи

Израђен од висококвалитетних сировина, отпоран на хабање и корозију, дуготрајну употребу

Без љуштених пукотина на површини, без мрља од уља, глатка и чиста бочна површина

Комплетне спецификације, произвољно сечење, подржавају нестандардно прилагођавање

Чистоћа циљаног материјала има велики утицај на перформансе филма. Чистоћа је један од циљних индикатора учинка.

Чистоћа

Чистоћа мете је један од главних показатеља учинка мете јер чистоћа мете у великој мери утиче на перформансе филма. Међутим, у стварним применама, захтеви за чистоћу циљног материјала нису исти. На пример, са брзим развојем индустрије микроелектронике, величина силицијумске плочице је проширена са 6 ", 8" на 12 ", ширина ожичења је смањена са 0.5 ум на 0. 25 ум, 0.18 ум и 0.13 ум. Раније је циљна чистоћа била 99,995 процената.

Садржај нечистоћа

Главни извор депонованог филма је кисеоник и влага циљних чврстих материја и пора. Мете за различите примене имају различите захтеве за различите нивое нечистоћа. На пример, мете од чистог алуминијума и легура алуминијума које се користе у индустрији полупроводника имају посебне захтеве за садржај алкалних метала и садржај радиоактивних елемената.

Густина

Да би се смањиле поре циљних чврстих материја и побољшале перформансе распршених филмова, мете обично морају бити гушће. Циљна густина утиче не само на брзину распршивања већ и на електрична и оптичка својства филма. Што је већа циљна густина, то су боље перформансе филма. Поред тога, када се повећа густина и интензитет мете, мета може да издржи топлотни стрес током распршивања. Густина је један од циљних индикатора учинка.

Величина зрна и дистрибуција величине

Обично је мета поликристална, а величина честица може бити од микрометара до милиметра. У случају исте мете, брзина распрскавања финозрнате мете је већа од брзине прскања крупнозрнате мете, док таложење распршивањем мање величине честица (уједначена дистрибуција) циља има уједначену дистрибуцију дебљине (уједначено) . Дистрибуција.

Ако сте заинтересовани замете за прскање титанијума високе чистоће, слободно нам се обратите:

Е-маил:zhangjixia@bjygti.com

Почетна страница:хттп://ввв.топтитецх.цом

Popularne oznake: Титанијумске мете за прскање високе чистоће, Кина, добављачи, произвођачи, прилагођени, употреба, ценовник, на продају, на лагеру, бесплатни узорак, порозни материјал